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    X-FAB引入圖像傳感器背照技術(shù)增強CMOS傳感器性能
    • 點擊數(shù):1221     發(fā)布時間:2024-04-09 20:58:51
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    ?2024年4月9日——全球公認的卓越的模擬/混合信號晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)今日宣布,其光學(xué)傳感器產(chǎn)品平臺再添新成員——為滿足新一代圖像傳感器性能的要求,X-FAB現(xiàn)已在其備受歡迎的CMOS傳感器工藝平臺XS018(180納米)上開放了背照(BSI)功能。

    為醫(yī)療、汽車和工業(yè)客戶提供集更高靈敏度、更大像素尺寸和感光面積于一體的傳感器工藝平臺

     

    2024年4月9日——全球公認的卓越的模擬/混合信號晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)今日宣布,其光學(xué)傳感器產(chǎn)品平臺再添新成員——為滿足新一代圖像傳感器性能的要求,X-FAB現(xiàn)已在其備受歡迎的CMOS傳感器工藝平臺XS018(180納米)上開放了背照(BSI)功能。

     

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    通過BSI工藝,成像感光像素性能將得到大幅增強。這一技術(shù)使得每個像素點接收到的入射光不會再被后端工藝的金屬層所遮擋,從而大幅提升傳感器的填充比,最高可達100%。由于其能夠獲得更高的像素感光靈敏度,因而在暗光條件下,這種優(yōu)勢尤為顯著。同時,由于光路縮短,BSI工藝還能有效減少相鄰像素間的串擾,進而提升圖像的成像質(zhì)量。盡管目前BSI技術(shù)已經(jīng)相當普遍地應(yīng)用于300毫米晶圓,并廣泛用在消費級的小像素圖像傳感器上,但針對200毫米晶圓市場,主要應(yīng)用在工業(yè)醫(yī)療汽車等領(lǐng)域;或者對于需要通過拼接式大像素圖像傳感器,尤其是在需要額外定制化的場景中,市場上BSI工藝的選擇卻十分有限。因此,X-FAB在原有廣受好評的CMOS傳感器工藝平臺XS018中新加入了BSI功能,為不同細分市場帶來全新可能性,無論是X射線診斷設(shè)備、工業(yè)自動化系統(tǒng)、天文研究,還是機器人導(dǎo)航、車載前置攝像頭等,客戶都能夠輕松地應(yīng)對最嚴苛的應(yīng)用需求。

     

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    XS018 CMOS傳感器平臺具有讀出速度快、暗電流低等特點,客戶還能夠在該平臺選擇多種不同的外延層厚度從而實現(xiàn)針對不同應(yīng)用場景的圖像傳感器。除此之外,通過BSI工藝,客戶還可選擇添加ARC層,并可以根據(jù)不同的特殊應(yīng)用要求進行調(diào)整。隨附的X-FAB設(shè)計支持包覆蓋了從初始設(shè)計到工程樣品裝運的完整工作流程,其中還包括完善的PDK。

     

    “BSI技術(shù)能夠?qū)⒏泄庠糜诟咏庠吹奈恢茫⒈苊獠槐匾碾娐纷璧K來提高圖像成像能力,因此在現(xiàn)代成像器件中得到日益廣泛的應(yīng)用。事實證明,這在暗光環(huán)境中非常有用。”X-FAB光學(xué)傳感器技術(shù)營銷經(jīng)理Heming Wei表示,“盡管此類應(yīng)用之前主要集中在消費電子領(lǐng)域,但目前工業(yè)、汽車和醫(yī)療市場也涌現(xiàn)出大量需求。借助X-FAB的BSI工藝,可以集合更高感光度、更大傳感器尺寸以及像素容量等優(yōu)勢,推出市場信服的產(chǎn)品,更大程度滿足工業(yè),汽車,醫(yī)療不同的應(yīng)用需求。”

     

    縮略語:

    ARC  抗反射涂層

    BSI  背照技術(shù)

    CMOS  互補金屬氧化物半導(dǎo)體

    PDK  工藝設(shè)計套件


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